-

CPPGCM/CT020 - TÓPICOS ESPECIAIS XXX: FILMES FINOS - Turma: 01 (2021.1)

Tópicos Aulas
Apresentacao da disciplina (05/04/2021 - 05/04/2021)

Apresentacao da disciplina, ementa e forma de avaliacao

Introdução (06/04/2021 - 07/04/2021)

- Filmes finos e aplicações

- Principais processos de preparação, etapas de crescimento, processos de caracterização e aplicações

Processo de deposição por evaporação (08/04/2021 - 13/04/2021)

- Termodinâmica da evaporação

- Taxa de evaporação

- Fontes de evaporação

- Evaporação de ligas

- Equipamentos de evaporação

- Aplicações tecnológicas

Avaliacao I (14/04/2021 - 14/04/2021)
Mecanismos de formação de filmes (15/04/2021 - 19/04/2021)

- Adsorção

- Difusão superficial

- Nucleação

- Estruturação

- Interfaces e stress

Deposição química em fase vapor-CVD (20/04/2021 - 26/04/2021)

- Tipos de reatores

- Termodinâmica do processo CVD

- Transporte de gás

- Cinética de crescimento do filme

Avaliacao II (27/04/2021 - 27/04/2021)
Aplicações de filmes finos (28/04/2021 - 28/04/2021)

- Aplicações tribológicas

- Microeletrônica

- Filmes foto e eletro-sensíveis

Avaliacao III (29/04/2021 - 29/04/2021)
Frequências da Turma
# Matrícula ABR Total
05 06 07 08 12 13 14 15 19 20 22 26 27 28 29
1 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
2 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
3 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
4 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
5 2020100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
6 2020100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
7 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
8 2021100**** 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
Notas da Turma
# Matrícula Unid. 1 Unid. 2 Unid. 3 Unid. 4 Prova Final Resultado Faltas Situação
1 2021100**** 10,0 10,0 10,0 10,0 10.0 0 AM
2 2021100**** 10,0 10,0 10,0 10,0 10.0 0 AM
3 2021100**** 10,0 9,0 9,0 9,0 9.3 0 AM
4 2021100**** 10,0 9,0 9,0 9,0 9.3 0 AM
5 2020100**** 8,0 8,0 8,0 8,0 8.0 0 AM
6 2021100**** 10,0 10,0 9,5 9,5 9.8 0 AM
7 2021100**** 10,0 9,0 9,0 9,0 9.3 0 AM
8 2020100**** 10,0 9,5 9,5 9,0 9.5 0 AM

Nenhum item foi encontrado

Plano de Curso

Nesta página é possível visualizar o plano de curso definido pelo docente para esta turma.

Dados da Disciplina
Ementa: Teoria cinética de gases; Tecnologia de vácuo; Mecanismos de formação de filmes; Processos de deposição de filmes; Caracterização e suas aplicações tecnológicas.
Objetivos:
Metodologia de Ensino e Avaliação
Metodologia: Aulas teórico-expositivas por meio de recursos de vídeoconferencia, apresentação de seminários e discussão de artigos relacionados ao tema
Procedimentos de Avaliação da Aprendizagem: apresentação de seminários
Horário de atendimento: 14h-15h
Bibliografia: 1 - OHRING, Milton. Materials science of thin films: deposition and structure. 2nd ed. New York: Academic Press, 2002.
2 - MARTIN, Peter M. Handbook of deposition technologies for films and coatings: science, applications and technology. 3rd ed. New York: Elsevier, 2010.
3 - CHOPRA, Kasturi L. Thin film phenomena. 1 ed. New York: McGraw-Hill, 1969.
Artigos científicos de revistas com seletiva política editorial publicados na area.
Cronograma de Aulas

Início

Fim

Descrição
05/04/2021
05/04/2021
Apresentacao da disciplina
06/04/2021
07/04/2021
Introdução
08/04/2021
13/04/2021
Processo de deposição por evaporação
14/04/2021
14/04/2021
Avaliacao I
15/04/2021
19/04/2021
Mecanismos de formação de filmes
20/04/2021
26/04/2021
Deposição química em fase vapor-CVD
27/04/2021
27/04/2021
Avaliacao II
28/04/2021
28/04/2021
Aplicações de filmes finos
29/04/2021
29/04/2021
Avaliacao III
Avaliações
Data Descrição
14/04/2021 1ª Avaliação
27/04/2021 2ª Avaliação
29/04/2021 3ª Avaliação
: Referência consta na biblioteca
Referências Básicas
Tipo de material Descrição
Referências Complementares
Tipo de material Descrição
Notícias da Turma

Nenhum item foi encontrado

SIGAA | Superintendência de Tecnologia da Informação - STI/UFPI - (86) 3215-1124 | sigjb03.ufpi.br.sigaa vSIGAA_3.12.1054 28/03/2024 21:09