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PPGCM189 - TÓPICOS ESPECIAIS II: TÉCNICAS DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS - Turma: 01 (2026.1)

Tópicos Aulas

Apresentação de disciplina (09/02/2026 - 09/02/2026)

Apresentação de disciplina, ementa e métodos de avaliação.

Unidade I: Introdução e termodinâmica de superfícies (10/02/2026 - 11/02/2026)

1.1. Definição de filmes finos e nanoestruturas 1.2. Energia livre de superfície e tensão superficial 1.3. Adsorção física e química 1.4. Isotermas de adsorção

Unidade II: Processos de nucleação e crescimento (12/02/2026 - 13/02/2026)

2.1. Teoria da nucleação capilar (homogênea vs. heterogênea) 2.2. Modelos de crescimento (Frank-van der Merwe (camada por camada), Volmer-Weber (ilhas) e Stranski-Krastanov (misto) 2.3. Evolução micro estrutural e zonas de estrutura

Unidade III: Técnicas de deposição física de vapor (19/02/2026 - 20/02/2026)

3.1. Evaporação térmica e por feixe de elétrons 3.2. Processos de sputtering 3.3. Transporte de massa no vácuo e livre caminha médio

Unidade IV: Deposição química de vapor e atômica (23/02/2026 - 24/02/2026)

4.1. Mecanismos de reação química em fase vapor 4.2. Deposição por camadas atômicas (ALD): conceitos de saturação e auto-limitação 4.3. Vantagens da ALD em termos de conformidade e controle de espessura

Unidade V: Caracterização e propriedades (25/02/2026 - 25/02/2026)

5.1. Medidas de espessura 5.2. Relação entre microestrutura e propriedades mecânicas, ópticas e elétricas 5.3. Técnicas de análise de superfície aplicada

Unidade VI: Aplicações tecnológicas (26/02/2026 - 26/02/2026)

6.1. Revestimentos protetores (tribologia e corrosão) 6.2. Dispositivos opto eletrônicos e semicondutores 6.3. Filmes finos em energi

Frequências da Turma

#	Matrícula	FEV											Total
#	Matrícula	10	11	12	13	19	20	23	24	25	26	27	Total
1	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
2	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
3	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
4	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
5	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
6	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
7	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
8	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
9	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
10	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
11	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
12	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
13	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
14	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0
15	2025100****	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0	0

Notas da Turma

#	Matrícula	Unid. 1	Resultado	Situação
1	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
2	2025100****	10,0	10.0	MATRICULADO
3	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
4	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
5	2025100****	9,8	9.8	MATRICULADO
6	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
7	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
8	2025100****	9,3	9.3	MATRICULADO
9	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
10	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
11	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO
12	2025100****	10,0	10.0	MATRICULADO
13	2025100****	10,0	10.0	MATRICULADO
14	2025100****	10,0	10.0	MATRICULADO
15	2025100****	9,5	9.5	MATRICULADO

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Plano de Curso

Nesta página é possível visualizar o plano de curso definido pelo docente para esta turma.

Dados da Disciplina
Ementa:	Tópicos especiais não constantes das disciplinas oferecidas, mas importantes para a formação do pós-graduando. O programa será organizado pelo professor responsável.
Objetivos:

Metodologia de Ensino e Avaliação
Metodologia:	Aulas teórico-expositivas por meio de recursos de vídeo, utilização de data show, quadro branco, apresentação de seminários e discussão de artigos relacionados ao tema.
Procedimentos de Avaliação da Aprendizagem:	Grupos de discussão e seminários
Horário de atendimento:	18h-19h
Bibliografia:	1 - OHRING, Milton. Materials science of thin films: deposition and structure. 2nd ed. New York: Academic Press, 2002. 2 - MARTIN, Peter M. Handbook of deposition technologies for films and coatings: science, applications and technology. 3rd ed. New York: Elsevier, 2010. 3 - CHOPRA, Kasturi L. Thin film phenomena. 1 ed. New York: McGraw-Hill, 1969. Artigos científicos de revistas com seletiva política editorial publicados na area. 4 - Artigos científicos relacionados ao tema

Cronograma de Aulas
Início	Fim	Descrição
09/02/2026	09/02/2026	Apresentação de disciplina
10/02/2026	11/02/2026	Unidade I: Introdução e termodinâmica de superfícies
12/02/2026	13/02/2026	Unidade II: Processos de nucleação e crescimento
19/02/2026	20/02/2026	Unidade III: Técnicas de deposição física de vapor
23/02/2026	24/02/2026	Unidade IV: Deposição química de vapor e atômica
25/02/2026	25/02/2026	Unidade V: Caracterização e propriedades
26/02/2026	26/02/2026	Unidade VI: Aplicações tecnológicas

Avaliações
Data	Descrição
27/03/2026	1ª Avaliação

: Referência consta na biblioteca

Referências Básicas
Tipo de material	Descrição

Referências Complementares
Tipo de material	Descrição

SIGAA | Superintendência de Tecnologia da Informação - STI/UFPI - (86) 3215-1124 | sigjb03.ufpi.br.instancia1 vSIGAA_3.12.1590 03/04/2026 09:02