Banca de DEFESA: GUILHERME SEVERINO MENDES DE ARAUJO

Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: GUILHERME SEVERINO MENDES DE ARAUJO
DATA: 27/02/2018
HORA: 09:00
LOCAL: Auditório do Departamento de Física/CCN
TÍTULO: O tratamento de superfície do ITO por plasma e a sua influência na caracterização elétrica AC e DC de PLEDs
PALAVRAS-CHAVES: Polímeros Conjugados, tratamento de superfície por plasma e PLED’s
PÁGINAS: 120
GRANDE ÁREA: Ciências Exatas e da Terra
ÁREA: Física
RESUMO:

Na construção de dispositivos orgânicos são utilizadas macromoléculas como camadas ativas. Estes materiais são depositados em substratos transparentes condutores, o mais utilizado é o óxido de indio e estanho (ITO). O tratamento e a composição do ITO é amplamente estudada com o intuito de melhorar as propriedades morfológicas e elétricas para obter um melhor rendimento quântico dos PLEDs. (“Polymeric Light Emitting Diode”)

Neste trabalho foi estudada a influência do tratamento de superfície ITO, submetido a plasma de argônio, nitrogênio e oxigênio, nas propriedades elétricas e morfológicas dos PLEDs com uma arquitetura do tipo “sanduíche”, ou seja, ITO/Camada Ativa/Metal e ITO/HIL/Camada Ativa/Metal. Como camada ativa do PLED utilizou-se o polímero semicondutor poli (2–metoxi–5- (2’etil-hexiloxi)-1,4-fenileno vinileno) (MEH-PPV) e como camada injetora de buracos (HIL) o condutor iônico Poli(3,4-etilenodioxitiofeno):poli(estireno sulfonato) (PEDOT:PSS).

No decorrer do trabalho foi observado, nas curvas de densidade de corrente (mA/cm²) x Tensão (V), um efeito descrito na literatura como anomalous currente (Anomalia na corrente) em aproximadamente V conduzindo a um efeito de Negative Differential Resistence (NDR). Observou-se também nestas curvas uma redução na tensão de condução, de 19,00 V(nos PLEDs com ITO sem tratamento) para 12,02 V (nos PLEDs com ITO tratado com plasma de Oxigênio). No mesmo sentido, foi observado que a anomalia na corrente esta estritamente ligada à presença do ar. Também, há indícios que o método de medição e o contato na interface ITO/Polímero são parâmetros que podem contribuir para o aparecimento deste fenômeno. Da análise das curvas de impedância, com relação ao dispositivo ITO/MEH-PPV/Al com ITO sem tratamento e tratados por plasma, pode-se observar que os sistemas apresentaram relaxação Debye, porém os dispositivos sem tratamento apresentou uma freqüência de relaxação enquanto que os dispositivos tratados por plasma apresentaram duas frequências de relaxação o que pode evidenciar a modificação causada pelo plasma. Para os dispositivos do tipo ITO/PEDOT:PSS//MEH-PPV/Al foram investigados, pela caracterização AC no ar e em vácuo, o efeito de anomalia na corrente na região de aparecimento do fenômeno (3 V), observou que não há mudança significativa em comparação ar–vácuo. Esse resultado corrobora com os resultados J x V, que o método de medição é um parâmetro importante no aparecimento do fenômeno.

A tecnica de Ângulo de contato foi utilizadas para estudar a molhabilidade do substrato. A morfologia da superfície foi estudada com técnica de microscopia de força atômica (AFM). O vidro não tratado e ITO tem ângulo de contato maior que 45º. No entanto, quando ambos os substratos são expostos ao plasma, a superfície torna-se hidrófilica permitindo uma boa aderência da água. A molhabilidade do substrato aumenta com o aumento do tempo de plasma e, para tempos superiores a 1 min, não se observa uma variação significativa ficando em torno de 10º. A rugosidade quadrática média de ambos os substratos submetidos ao plasma não apresentam variação significativa quando comparada com substratos não tratados. No caso do vidro, a mudança de morfologia é mais pronunciada quando comparada à ITO. A variação de rugosidade é de aproximadamente 2nm, de acordo com a literatura, para ter uma influência significativa da rugosidade no ângulo de contato ela deve ser superior a 0,1 μm.

MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 2056226 - CLEANIO DA LUZ LIMA
Externo ao Programa - 423287 - JOSE RIBEIRO DOS SANTOS JUNIOR
Externo à Instituição - LUCAS FUGIKAWA SANTOS - UNESP
Externo ao Programa - 1714296 - MARIA LETICIA VEGA